Number of the records: 1  

Thin films deposition of amorphous silicon and organosilicon compounds


  1.  Salyk, Ota, 1954- - Author
    Brno : VUTIUM, 2003 - 40 s. : il. ; 24 cm
    ISBN 80-214-2283-1
    Vědecké spisy Vysokého učení technického v Brně. Habilitační a inaugurační spisy,
     amorfní látky  tenké vrstvy
     teze
    Call numberC 307.890
    Umístění
    Thin films deposition of amorphous silicon and organosilicon compounds
    BranchPlaceInfoSignature
    Lidická ( příruční sklad )k vypůjčeníC 307.890   

    Title statementThin films deposition of amorphous silicon and organosilicon compounds : short version of habilitation thesis = Příprava tenkých vrstev amofního křemíku a organokřemičitých sloučenin : vědní obor materiálové inženýrství / Ota Salyk
    Par.titlePříprava tenkých vrstev amofního křemíku a organokřemičitých sloučenin
    Main entry-name Salyk, Ota, 1954- (Author)
    Issue dataBrno : VUTIUM, 2003
    Phys.des.40 s. : il. ; 24 cm
    ISBN80-214-2283-1
    National bibl. num.cnb001198671
    Ser.statement/add.entry Vysoké učení technické v Brně. Vědecké spisy. Habilitační a inaugurační spisy
    NoteČeské resumé. Nad názvem: Vysoké učení technické v Brně, Fakulta chemická, Ústav fyzikální a spotřební chemie
    Internal Bibliographies/Indexes NoteObsahuje bibliografii
    Another responsib. Vysoké učení technické v Brně. Ústav fyzikální a spotřební chemie
    Subj. Headings amorfní látky * tenké vrstvy
    Form, Genre teze
    Conspect539 - Fyzikální stavba hmoty. Jaderná fyzika. Molekulární fyzika
    UDC 544.23 , 546.28 , 539.216 , (048.3)
    CountryČesko
    Languageangličtina
    Document kindBOOKS
    Thin films deposition of amorphous silicon and organosilicon compounds
    Loading…

Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.