Počet záznamů: 1
Thin films deposition of amorphous silicon and organosilicon compounds
SYS m0295732 LBL 02065nam-a2200469-a-4500 003 CZ-CbJVK 005 20240109102920.4 007 ta 008 030317s2003----xr-a---f------000-0-eng-- 015 $a cnb001198671 020 $a 80-214-2283-1 $q (brož.) 035 $a (OCoLC)53260299 040 $a ABA001 $b cze 041 0-
$a eng $b cze 072 -7
$a 539 $x Fyzikální stavba hmoty. Jaderná fyzika. Molekulární fyzika $2 Konspekt $9 6 080 $a 544.23 $2 MRF 080 $a 546.28 $2 MRF 080 $a 539.216 $2 MRF 080 $a (048.3) $2 MRF 100 1-
$a Salyk, Ota, $d 1954- $7 mzk2002160884 $4 aut 245 10
$a Thin films deposition of amorphous silicon and organosilicon compounds : $b short version of habilitation thesis = Příprava tenkých vrstev amofního křemíku a organokřemičitých sloučenin : vědní obor materiálové inženýrství / $c Ota Salyk 246 31
$a Příprava tenkých vrstev amofního křemíku a organokřemičitých sloučenin 260 $a Brno : $b VUTIUM, $c 2003 300 $a 40 s. : $b il. ; $c 24 cm 490 1-
$a Vědecké spisy Vysokého učení technického v Brně. Habilitační a inaugurační spisy, $x 1213-418X ; $v sv. 106 500 $a České resumé 500 $a Nad názvem: Vysoké učení technické v Brně, Fakulta chemická, Ústav fyzikální a spotřební chemie 504 $a Obsahuje bibliografii 650 07
$a amorfní látky $7 ph118405 $2 czenas 650 07
$a tenké vrstvy $7 ph126536 $2 czenas 655 -7
$a teze $7 fd133701 $2 czenas 710 2-
$a Vysoké učení technické v Brně. $b Ústav fyzikální a spotřební chemie $7 kn20030320005 810 2-
$a Vysoké učení technické v Brně. $t Vědecké spisy. $p Habilitační a inaugurační spisy 856 41
$u http://krameriusndk.nkp.cz/search/handle/uuid:d958e650-60fa-11e4-8214-005056827e51 $3 DNNT $x DNNTO $y Digitalizovaný dokument 910 $a CBA001 FMT BK
Počet záznamů: 1