Počet záznamů: 1
Thin films deposition of amorphous silicon and organosilicon compounds
kniha
Salyk, Ota, 1954- - Autor
Brno : VUTIUM, 2003 - 40 s. : il. ; 24 cm
ISBN 80-214-2283-1
Vědecké spisy Vysokého učení technického v Brně. Habilitační a inaugurační spisy,
amorfní látky tenké vrstvy
tezeSignatura C 307.890 Umístění Údaje o názvu Thin films deposition of amorphous silicon and organosilicon compounds : short version of habilitation thesis = Příprava tenkých vrstev amofního křemíku a organokřemičitých sloučenin : vědní obor materiálové inženýrství / Ota Salyk Souběž.n. Příprava tenkých vrstev amofního křemíku a organokřemičitých sloučenin Záhlaví-jméno Salyk, Ota, 1954- (Autor) Vyd.údaje Brno : VUTIUM, 2003 Fyz.popis 40 s. : il. ; 24 cm ISBN 80-214-2283-1 Číslo nár. bibl. cnb001198671 Edice/vedl.záhl. Vysoké učení technické v Brně. Vědecké spisy. Habilitační a inaugurační spisy Poznámky České resumé. Nad názvem: Vysoké učení technické v Brně, Fakulta chemická, Ústav fyzikální a spotřební chemie Poznámky o skryté bibliografii a rejstřících Obsahuje bibliografii Dal.odpovědnost Vysoké učení technické v Brně. Ústav fyzikální a spotřební chemie
Předmět.hesla amorfní látky * tenké vrstvy Forma, žánr teze Konspekt 539 - Fyzikální stavba hmoty. Jaderná fyzika. Molekulární fyzika MDT 544.23 , 546.28 , 539.216 , (048.3) Země vyd. Česko Jazyk dok. angličtina Druh dok. KNIHY Načítání…
Počet záznamů: 1